系统主要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片水冷加热公转台、Kaufman离子枪、四工位转靶、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。
技术指标
型号
| FJL-560
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真空室尺寸
| Ф550x450mm
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真空系统配置
| 复合分子泵、机械泵、闸板阀
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极限压力
| ≤6.67x10-5Pa (经烘烤除气后)
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恢复真空时间
| 40分钟可达到6.6x10-4Pa
(系统短时间暴露大气并充干燥氮气开始抽气)
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磁控靶组件
| 永磁靶4套 靶材尺寸Φ60mm(其中一个可以溅射铁磁性材料) 各靶射频溅射与直流溅射兼容;
靶与样品距离40-80mm可调
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主溅射离子枪
| 引出栅直径Φ30mm离子束能量0.4-2.0Kev连续可调
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辅助沉积离子枪
| 引出栅直径:Φ30mm离子束能量:0.4-1.5Kev连续可调 离子流密度:1-3mA/cm2
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气路系统
| 质量流量控制器3路
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计算机控制系统
| 控制靶挡板、四工位转靶换靶位、样品公转、样品挡板、样品控温等
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设备占地面积
| 主机
| 1300X850mm2
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电控柜
| 700X700mm2(两个)
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